三基色熒光粉（還原專用氨分解制氫設備帶純化）
一．氨分解制氫流程簡述：
利用液氨為原料，氨經裂解后，每公斤液氨裂解可制得2.64Nm3混合氣體，其中含75%的氫氣和25%的氮氣。所得的氣體含雜質較少（雜質中含水汽約2克/立方米，殘余氨約1000ppm）, 再通過分子篩（美國UOP）吸附純化器，氣體的露點可降至-600C以下，殘余氨可降至3PPM以下.
氨裂解制氫爐可用于有色金屬，硅鋼、鉻鋼和不銹鋼等金屬材料和零件的光亮退火、硅鋼片的脫碳處理、銅基、鐵基粉末冶金燒結、電真空器件的金屬零件燒氫處理、半導體器件的保護燒結和封結、鈀合金膜擴散純化氫氣的原料氣等。
原料氨容易得到，價格低廉，原料消耗較少。氨裂解來制取保護氣體具有投資少，體積小，效率高等優(yōu)點
二．氨分解制氫工作原理：
氨（氣態(tài)）在一定溫度下，經催化劑（西南院Z204）作用下裂解為75%的氫氣和25%的氮氣，并吸收21.9千卡熱量，其主要反應為：
2NH3—3H2+N2-21.9千卡
整個過程因是吸熱膨脹反應，提高溫度有利于氨裂解,同時它又是體積擴大的反應,降低壓力有利于氨的分解，氨分解制氫設備為使用*佳狀態(tài)。

三．氫氣純化工作原理：
當氨分解制氫設備所產生的氫氣合格時再進入氫氣純化作進一步提純處理，裂解氫氣的純度很高，其中揮發(fā)性雜質只有微量的殘氨和水份,可見只須除去微量殘氨和水份即可獲得高純度氣體.
氣體提純采用變溫吸附技術。變溫吸附(TSA)技術是以吸附劑(多孔固體物質)內部表面對氣體分子在不同溫度下吸附性能不同為基礎的一種氣體分離純化工藝.常溫時吸附雜質氣,加溫時脫附雜質氣,
分子篩表面全是微孔，在常溫常壓下可吸附相當于自重20%(靜態(tài)吸附時的水份和雜質，而在350℃左右的溫度下，可以再生完全，每24小時切換一次，以得到純度和雜質含量均合格的產品氣體。